光刻机是由法国人Nicephore Niepce发明的。他在1822年发现了一种能够刻在油纸上的印痕，并将其应用于玻璃片上，通过日晒使透光部分硬化，不透光部分则可以用松香和植物油洗掉，从而复制出图案。这项技术后来被用于印刷电路板，并随着技术的发展，逐渐演变成现代半导体生产制造中的关键设备
光刻机在中国的发展现状如何？
Nicephore Niepce的光刻机有哪些改进？
光刻机制造过程中有哪些难点？
